W pracy dokonano oceny plonowania i elementów struktury plonu 3 linii ozimych pszenicy twardej Triticum durum Desf. w warunkach zróżnicowanego poziomu ochrony chemicznej. Badania polowe przeprowadzone w latach 2006-2008 objęły linie STH 716, 717 i 725, które otrzymano w Stacji Hodowli Roślin w Strzelcach i odmianę pszenicy zwyczajnej Tonacja. Stosowano 2 poziomy ochrony chemicznej: I – ochrona minimalna (zaprawa nasienna Oxafun T 75 DS/WS i herbicyd Chwastox Trio 540 SL), II – ochrona kompleksowa (zaprawa nasienna, herbicydy Puma Uniwersal 069 EW i Chwastox Trio 540 SL, fungicyd Alert 375 SC, regulator wzrostu Stabilan 750 SL i insektycyd Decis 2,5 EC). W porównaniu z ochroną minimalną na obiektach chronionych kompleksowo otrzymano wzrost plonu ziarna pszenicy o 1,08 t∙ha^-1, niezależnie od porównywanych linii i odmian. Średni plon ziarna badanych linii pszenicy twardej – 5,82 t·ha^-1 należy uznać za dobry, jednak w porównaniu z pszenicą zwyczajną stanowił tylko 66% jej plonu. Niższe plonowanie pszenicy twardej w porównaniu z pszenicą zwyczajną wynikało przede wszystkim z niższej obsady kłosów na jednostce powierzchni. Stwierdzono korzystne oddziaływanie ochrony chemicznej na liczbę kłosów oraz liczbę ziarn z kłosa. Linie pszenicy twardej wyróżniały się wysoką szklistością ziarna.

15-22